1.2.2. Segunda generación

Película delgada

En el caso de las capas delgadas, el material más utilizado es el Silicio-Hidrógeno (Silicio amorfo). Sin embargo, también se pueden utilizar otros materiales como el Cobre-Indio-Selenio (CIS) y el Teluro de Cadmio (CdTe).

En esta tecnología no se utilizan láminas de cristal para hacer las celdas, sino que el material a utilizar se rocía sobre un sustrato, el cual puede ser incluso un material flexible. La capa de material rociado puede tener un espesor incluso menor a 2 μm (micrómetros).

Con esta tecnología se pueden hacer módulos formados por una sección continua de material, sin la necesidad de unir varias celdas.

Entre las características de los sistemas de Silicio amorfo se pueden mencionar:

• No existe estructura cristalina ordenada; el silicio se deposita sobre un soporte transparente en forma de una capa fina.
• Presentan un color marrón y gris oscuro
• Su uso es menos extendido en aplicaciones fotovoltaicas. Un ejemplo común es su incorporación en calculadoras, relojes, etc.
• Eficiencia: 6% a 8%
• Permite láminas muy finas.
• Muy económico y expectativa del futuro.
• La potencia que producen inicialmente se va reduciendo hasta estabilizarse luego de algunos meses.

 

Figura 5. Módulo de película delgada